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原子層沉積系統

詳細摘要： PICOFLOW™系統的目的是減緩反應氣體從反應腔中排出，從而增加其在反應腔中的停留時間。這允許前驅體有更長的時間擴散至樣品表面，對于提高通孔、高度...
產品型號：PICOFLOW 擴散增強所在地：北京市更新時間：2018-05-15 在線留言
原子層沉積系統ALD R-200 Advanced

詳細摘要：原子層沉積系統ALD R-200 AdvancedPICOSUN™ R系列ALD產品能夠沉積高質量薄膜，即使襯底結構十分復雜，如多孔材料、高深寬比的...
產品型號：ALD R-200 Advanced所在地：北京市更新時間：2018-05-15 在線留言
原子層沉積系統

詳細摘要： PICOSUN™ P系列量產ALD系統定義了高產量ALD的新時代。我們全自動化、真空集群與產線兼容的原子層沉積系統確保了zui大的產出效率，并且具有...
產品型號：ALD P-200 Pro所在地：北京市更新時間：2018-05-15 在線留言
原子層沉積系統ALD R-200 Standard

詳細摘要：原子層沉積系統ALD R-200 StandardPICOSUN™ R系列ALD產品能夠沉積高質量薄膜，即使襯底結構十分復雜，如多孔材料、高深寬比的...
產品型號：ALD R-200 Standard所在地：北京市更新時間：2018-05-15 在線留言