PLD薄膜沉積系統(tǒng)是一種用途廣泛的薄膜沉積技術(shù)。脈沖激光快速蒸發(fā)靶材，生成與靶材組成相同的薄膜。PLD的*之處是能量源（脈沖激光）位于真空室的外面。這樣，在材料合成時(shí)，工作壓力的動(dòng)態(tài)范圍很寬，達(dá)到10-10 Torr ~ 100 Torr。通過控制鍍膜壓力和溫度，可以合成一系列具有*功能的納米結(jié)構(gòu)和納米顆粒。另外，PLD是一種“數(shù)字"技術(shù)，在納米尺度上進(jìn)行工藝控制（A/pulse）。

詳細(xì)介紹

PLD薄膜沉積系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)：

型號(hào)	Pioneer240	Pioneer180	Pioneer120	Pioneer80
zui大wafer直徑	8"	6"	2"	1"
zui大靶材數(shù)量	6個(gè)1" 或4個(gè)2"	6個(gè)1" 或4個(gè)2"	6個(gè)1" 或3個(gè)2"	4個(gè)1"
壓力(Torr)	<10-8	<10-8	<10-8	<10-8
真空室直徑	24"	18"	12"	8"
基片加熱器	8"，旋轉(zhuǎn)	6"，旋轉(zhuǎn)	3"，旋轉(zhuǎn)	2"，旋轉(zhuǎn)
zui高樣品溫度	850 ° C	850 ° C	950 ° C	950 ° C
Turbo泵抽速（liters/sec）	800	260	260	70
計(jì)算機(jī)控制	包括	包括	包括	包括
基片旋轉(zhuǎn)	包括	包括	-	-
基片預(yù)真空室	包括	選件	選件	-
掃描激光束系統(tǒng)	包括	選件	-	-
靶預(yù)真空室	包括	-	-	-
IBAD離子束輔助沉積	選件	選件	選件	-
CCS連續(xù)組成擴(kuò)展	選件	選件	-	-
高壓RHEED	選件	-	-	-
520 liters/sec泵	a/n	選件	-	-

PLD薄膜沉積系統(tǒng)主要特點(diǎn)：

*PLD概念清晰易懂：激光束使靶子表面蒸發(fā)，生產(chǎn)出與靶子同樣化學(xué)組成的膜。
*PLD應(yīng)用廣泛：很多材料在多樣的氣體環(huán)境和很寬的氣體壓力范圍內(nèi)都可以鍍膜。
*PLD節(jié)省成本：一束激光能夠供多個(gè)真空系統(tǒng)使用。
*PLD高效率：在10至15分鐘，可生長(zhǎng)高質(zhì)量的樣品。
*PLD可升級(jí)：當(dāng)需要大批量生產(chǎn)復(fù)合氧化物膜時(shí)，Neocera公司將證明作為生產(chǎn)工具的價(jià)值。

關(guān)鍵詞：加熱器

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