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半導(dǎo)體清洗機(jī)臺(tái)

參考價(jià)訂貨量

10000

≥1臺(tái)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào)
  • 品牌其他品牌
  • 所在地蘇州市
  • 更新時(shí)間2025-05-28
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 所在地區(qū)蘇州市
  • 產(chǎn)品數(shù)量11
  • 人氣值85
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 蘇州芯矽電子科技有限公司是一家專業(yè)半導(dǎo)體濕法設(shè)備制造公司,主要提供實(shí)驗(yàn)室研發(fā)級(jí)到全自動(dòng)量產(chǎn)級(jí)槽式清洗機(jī),單片清洗機(jī),高純化學(xué)品/研磨液供應(yīng)回收系統(tǒng)及工程,公司核心產(chǎn)品12寸全自動(dòng)晶圓化學(xué)鍍?cè)O(shè)備,12寸全自動(dòng)爐管/ Boat /石英清洗機(jī)已占據(jù)行業(yè)主導(dǎo)地位,已經(jīng)成功取得長(zhǎng)江存儲(chǔ) ,中芯國(guó)際,重慶華潤(rùn),上海華虹,上海積塔,上海格科,廣東粵芯,青島芯恩,廈門士蘭,南通捷捷,湖南楚微等主流8寸12寸Fab產(chǎn)線訂單,我們致力于為合作伙伴提供設(shè)備解決方案。

 

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半導(dǎo)體清洗機(jī)臺(tái)是晶圓制造中用于去除表面污染物(顆粒、金屬、有機(jī)物)的關(guān)鍵設(shè)備,通過(guò)化學(xué)濕法、兆聲波、噴淋或摩擦刷洗等技術(shù)實(shí)現(xiàn)納米級(jí)潔凈度。其核心工藝包括RCA標(biāo)準(zhǔn)清洗(SC-1/SC-2配方)、CMP后殘留處理及光刻膠剝離,兼容6-12英寸晶圓。設(shè)備具備自動(dòng)化控制(溫度/濃度/流速調(diào)節(jié))、藥液回收系統(tǒng)和干燥單元(如離心甩干+CDA吹掃),確保顆粒殘留<0.1顆/cm²、金屬污染<1×10¹? at
半導(dǎo)體清洗機(jī)臺(tái) 產(chǎn)品詳情

一、產(chǎn)品概述

半導(dǎo)體清洗機(jī)臺(tái)是晶圓制造工藝中用于去除表面污染物的核心設(shè)備,通過(guò)化學(xué)濕法、物理作用或二者結(jié)合的方式,清除硅片表面的顆粒、金屬殘留、有機(jī)物及氧化層。其廣泛應(yīng)用于前道制程(如光刻膠剝離、柵極氧化前清洗)和后道工藝(如CMP后殘留處理),直接影響芯片良率與電性能。現(xiàn)代清洗機(jī)臺(tái)支持6-12英寸晶圓,兼容單片濕法、兆聲波、噴淋等多種技術(shù),具備自動(dòng)化控制、高效潔凈度及環(huán)保設(shè)計(jì)特點(diǎn)。

二、核心功能與技術(shù)優(yōu)勢(shì)

多工藝清洗能力

標(biāo)準(zhǔn)RCA流程:嚴(yán)格遵循SC-1(堿性過(guò)氧化氫去膠)、SC-2(酸性氟化物去金屬)等配方,可定制化調(diào)整化學(xué)品濃度、溫度及處理時(shí)間。

兆聲波增強(qiáng):高頻超聲波(20-100kHz)產(chǎn)生空化效應(yīng),剝離>99%的超細(xì)顆粒(≥25nm),避免機(jī)械損傷。

CMP后清洗:專用于化學(xué)機(jī)械拋光后殘留氧化物的清除,保障表面平整度。

高精度污染控制

顆粒清除:通過(guò)噴淋+兆聲波組合,顆粒殘留<0.1顆/cm2(≥25nm)。

金屬污染:SC-2步驟將金屬密度降至<1×101? atoms/cm2,滿足制程需求。

有機(jī)物去膠:高效分解光刻膠及助劑殘留,防止后續(xù)層間粘連。

智能化與自動(dòng)化設(shè)計(jì)

參數(shù)精準(zhǔn)調(diào)控:PLC系統(tǒng)實(shí)時(shí)監(jiān)控流量、溫度、轉(zhuǎn)速,支持SECS/GEM協(xié)議對(duì)接MES系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)追溯。

多腔室模塊化:4-8個(gè)獨(dú)立腔室可選,支持并行處理不同工藝(如去膠、蝕刻、純水沖洗),提升產(chǎn)線效率。

靜電消除技術(shù):腔體內(nèi)集成離子風(fēng)機(jī),減少顆粒吸附風(fēng)險(xiǎn),保障潔凈環(huán)境。

環(huán)保與節(jié)能特性

藥液回收系統(tǒng):廢液分類回收率>99%,降低HF、H?O?等高危化學(xué)品消耗,符合RoHS標(biāo)準(zhǔn)。

低能耗模式:純水使用量<1L/min,離心干燥能耗較熱風(fēng)烘干降低30%。

三、應(yīng)用場(chǎng)景

前道制程:

光刻膠剝離(正膠/負(fù)膠清洗)。

柵極氧化前的納米級(jí)潔凈度保障。

刻蝕后通孔/溝槽清潔,避免殘?jiān)绊懗练e。

后道工藝:

CMP后殘留氧化物去除,提升平坦化效果。

芯片封裝前的背面減薄預(yù)處理。

特殊材料兼容:除單晶硅外,可處理多晶硅、氮化硅、金屬薄膜(如Al Pad、Cu布線)等。

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