質量流量控制器 V 系列 MFC
應用場景:MFC 既可應用于半導體前段制程,如 ETCH、PVD、ALD、MOCVD、IMP 等設備中, 也在光伏能源、真空鍍膜等領域有可觀的市場。 MFC 可通過對氣體流量的精準控制,有效地提供更高的良率。
該系列產品可廣泛應用于半導體制造中的 etch(刻蝕)、CVD(化學氣相沉積)、PVD(物理氣相沉積)、ALD(原子層沉積)、MOCVD(金屬有機化學氣相沉積)等工藝設備中,也適用于如 MPCVD(微波等離子體化學氣相沉積)、解熱解凍干燥、石英提純、醫療廢棄物處理等領域。