一、機(jī)械拋光：在專業(yè)的金相拋光機(jī)上(如NB-800型金相磨拋機(jī))進(jìn)行拋光。機(jī)械拋光主要分為兩個(gè)步驟：粗拋和精拋。
精拋：目的是除去磨光的變形層。
以往粗拋常用的磨料是粒度為10-20μm的α-A12O3、Cr2O3，加水配成懸浮液使用。目前，人造金剛石磨料已逐漸取代了氧化鋁等磨料，因其具有以下優(yōu)點(diǎn)：1）與氧化鋁等相比，例如4~8μm金剛石磨粒，拋光速率與10-20μm氧化鋁或碳化硅的拋光速率相近；2）表面變形層較淺；3)拋光質(zhì)量。
精拋：又稱終拋，目的是除去粗拋產(chǎn)生的變形層，使拋光損傷減少到zui低。常用的精拋磨料為MgO及y-Al2O3，其中MgO的拋光效果，但拋光效率低，且不易掌握; y-Al2O3的拋光速率高，且易于掌握。
二、電解拋光：利用陽極腐蝕法使試樣表面變得平滑光亮的拋光方法。
電解拋光用不銹鋼作為陰極，被拋光的試樣作為陽極，容器中盛放電解液，當(dāng)接通電流后，試樣的金屬離子在溶液中發(fā)生溶解，在一定電解的條件下，試樣表面微凸部分的溶解比凹陷處來得快，從面逐漸使試樣表面有粗糙變平坦光亮。
優(yōu)缺點(diǎn)：
1 與機(jī)械拋光相比，電解拋光純系電化學(xué)的溶解過程，沒有機(jī)械力的作用，不引起金屬的表面變形。
2 對(duì)于硬度低的單相合金以及一般機(jī)械拋光難于做到的鋁合金、鎂合金、銅合金、鈦合金、不銹鋼等宜采用方法。
3 電解拋光對(duì)于材料化學(xué)成分的不均勻性，顯微偏析特別敏感，非金屬夾雜物處會(huì)被劇烈地腐蝕，因此不適用于偏析嚴(yán)重的金屬材料及作夾雜物檢驗(yàn)的金相試樣。
注意事項(xiàng)：電解拋光必須選擇合適的電壓，控制好電流密度，過低和過高電壓都不能達(dá)到正常拋光的目的。
三、化學(xué)拋光：利用化學(xué)溶解作用得到光滑的拋光表面。
將試樣浸在化學(xué)拋光液中，進(jìn)行適當(dāng)?shù)臄噭?dòng)或用棉花擦試，一段時(shí)間之后即可得到光亮的表面。化學(xué)拋光兼有化學(xué)腐蝕的作用，能顯示金相組織，拋光后可直接在顯微鏡下觀察。
化學(xué)拋光操作簡單，成本低廉，不需要特別的儀器設(shè)備，對(duì)原來試樣表面的光潔度要求也不高。
化學(xué)拋光液的成分隨拋光材料的不同而不同。一般為混合酸液。常用的酸類有：正磷酸、鉻酸、硫酸、醋酸、硝酸及氫酸；為了增加金屬表面的活性以利于化學(xué)拋光的進(jìn)行，還加入一定量的過氧化氫。化學(xué)拋光液經(jīng)使用后，溶液內(nèi)金屬離子增多，拋光作用減弱，需經(jīng)常更換。
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2015.12.14
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