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RIE反應離子刻蝕機的特點和應用場景

閱讀:9發布時間:2025-4-21

反應離子刻蝕機是一種用于信息科學與系統科學、材料科學領域的工藝試驗儀器,它利用射頻電源在上下電極間產生輝光放電,使反應氣體分子被電離生成等離子體,然后通過化學和物理反應來移除襯底表面的材料。

 

反應離子刻蝕機具有以下特點:

  • 固態射頻發生器和近距離耦合匹配網絡,可實現快速且一致的刻蝕
  • 全局域的工藝氣體進氣噴頭實現了均勻的氣體分布
  • 電極溫度可調節,范圍為-150℃至+400℃
  • 高抽氣速率能夠提供較寬的工藝氣壓窗口
  • 晶圓壓盤與背氦制冷提供了更佳的晶片溫度控制
  • 可刻蝕各種材料,如金屬、半導體、介質等

 

反應離子刻蝕機在微納加工領域有著廣泛的應用,如制備微型傳感器、微型馬達、微型光學器件等。它可以實現高度各向異性的刻蝕,即沿垂直方向刻蝕速率遠大于沿水平方向刻蝕速率,從而保證了圖形的精確轉移和高方面比。

 


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