成都福克儀器有限公司
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產(chǎn)品型號DHRM1
品 牌
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
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更新時間:2025-02-27 16:58:18瀏覽次數(shù):168次
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DHRM1射頻磁控濺射鍍膜裝置主要由濺射鍍膜室、真空抽氣系統(tǒng)、氣源進(jìn)氣調(diào)節(jié)系統(tǒng)、襯底加熱溫度控制系統(tǒng)、射頻電源等部分組成。DHRM1磁控濺射鍍膜裝置具有沉積速率高,可以濺射任何材料,包括導(dǎo)體、半導(dǎo)體和介質(zhì)材料等特點。DHRM1磁控濺射鍍膜裝置由于在低氣壓下濺射,因此膜層致密、針孔少、純度高。DHRM1射頻磁控濺射鍍膜裝置.DHRM1射頻磁控濺射鍍膜裝置.DHRM1射頻磁控濺射鍍膜裝置
DHRM1射頻磁控濺射鍍膜裝置
DHRM1射頻磁控濺射鍍膜裝置主要由濺射鍍膜室、真空抽氣系統(tǒng)、氣源進(jìn)氣調(diào)節(jié)系統(tǒng)、襯底加熱溫度控制系統(tǒng)、射頻電源等部分組成。由于磁控濺射能夠**地控制工藝參數(shù)和提高膜層附著力、密度及均勻性,已成為沉積薄膜的重要方法之一,射頻磁控濺射具有沉積速率高,可以濺射任何材料,包括導(dǎo)體、半導(dǎo)體和介質(zhì)材料等特點。由于在低氣壓下濺射,因此膜層致密、針孔少、純度高。
可開設(shè)的實驗
1、掌握射頻磁控濺射法制膜的基本原理;
2、了解磁控濺射鍍膜儀的操作過程及使用范圍;
3、磁控濺射法制備金屬膜、半導(dǎo)體膜、化合物膜、介質(zhì)膜等薄膜。
主要技術(shù)參數(shù)
1、濺射鍍膜室:由不銹鋼底與玻璃鐘罩組成;有效尺寸:Φ220×H230mm3;
2、濺射鍍膜室本底真空:≤1Pa;濺射腔極限真空:6×10-1Pa;
3、濺射靶:Φ50mm,濺射靶臺和濺射靶可調(diào)距離:20~60mm;
4、基片加熱溫度可控范圍:室溫~300℃;
5、射頻源功率:500W,13.56MHz;
6、氣路系統(tǒng):由兩路轉(zhuǎn)子流量計控制(可選配質(zhì)量流量計);
7、真空系統(tǒng):2XZ-4型旋片真空泵,抽氣速率:4L/S,單相220V交流電源供電;
8、對過流過壓、斷路等異常情況進(jìn)行報警,并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)措施;
9、供電電源:AC220V,50Hz,整機(jī)功率2KW。
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