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氣氛熱處理程控高溫爐 ISSPHTF

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產品型號ISSPHTF

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更新時間:2025-02-27 17:34:12瀏覽次數:100次

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產品簡介

ISSPHTF氣氛熱處理程控高溫爐是為高等院校和科研院所進行材料制備而研制的專用設備。裝置由爐體、真空系統、溫度控制系統等組成.ISSPHTF程控高溫爐可完成的實驗有:材料合成及制備納米材料,制備薄膜,如高溫超導薄膜等;固相反應法材料合成:在大氣、真空或氣氛保護下進行各種材料熱處理.ISSPHTF氣氛熱處理程控高溫爐。ISSPHTF氣氛熱處理程控高溫爐.ISSPHTF氣氛熱處理程控高溫爐

詳細介紹

ISSPHTF氣氛熱處理程控高溫爐

概述:
ISSPHTF氣氛熱處理程控高溫爐是為高等院校和科研院所進行材料制備而研制的專用設備。
裝置由爐體、真空系統、溫度控制系統等組成。
可完成的實驗有:
1、用氣相傳輸法材料合成及制備納米材料,如ZnO,CdS等;
2、溶液法制備薄膜,如制備龐磁電阻薄膜,制備高溫超導薄膜等;
3、固相反應法材料合成:在大氣、真空或氣氛保護下進行各種材料的熱處理。
主要技術特點:
◆采用抽真空和保護氣氛相結合,既可以抽真空,又可以通入不同的氣體,可滿足氧化物和非氧化物的氣氛熱處理;
◆采用特殊的爐膛保溫材料,具有密度小,保溫性能好等特點;
◆特別的高溫熱處理范圍,突破1300℃的常規溫度,可達1550℃;
◆采用程序控制溫度,實現智能化;適合于氣相傳輸法制備各類納米材料:
◆可以根據用戶特殊要求進行個性化設計。
主要技術參數及性能:

1、電源:AC220℃,50/60HZ;
2、額定功率:5KW;
3、爐膛尺寸:φ40mm×980mm,φ60mm×980mm;
4、加熱區尺寸:220mm,恒溫區尺寸:100mm;
5、溫度控制范圍:100~1600℃,控制精度:±1℃,升溫速率:10℃/min;
6、報警保護:上、下限,正、負偏差,斷偶等報警。 7、質量:約150kg。

氣氛熱處理程控高溫爐


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