圓派科學儀器（上海）有限公司
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閱讀：51發布時間：2025-1-14
共焦與干涉的不期而遇
精準的表面分析是在眾多生產和研發過程中的因素，以此來確保材料和組件的性能優化。在晶片生產過程中，制造商需要對晶片的層厚和臨界尺寸進行評估；在汽車和航空航天行業，組件的表面粗糙度是決定組件性能至關重要的因素。
然而，樣品表面錯綜復雜的結構，不同的高傾斜度，會要求橫向分辨率達到亞微米，垂直方向分辨率甚至達到納米級。如何獲取高質量的二維圖像，執行復雜的三維表面分析，得出精準的分析結果？在徠卡，共焦和干涉的一場美麗邂逅，將多功能快速 3D 表面測量技術推上了一個新的高峰。
測量光柵的周期，高度 放大倍數：1000x
光柵周期曲線圖
（樣品來源：北京大學微電子工藝實驗室）
硅結構器件 硅墻 放大倍數：2100x
用不同顏色展現樣品表面的高低形貌
（樣品來源：北京大學微電子工藝實驗室）
半導體結構器件表面損傷觀察 放大倍數2100x
用不同顏色展現樣品表面的高低形貌
（樣品來源：半導體研究所）
觀察光柵 放大倍數：2100x
用不同顏色展現樣品表面的高低形貌
（樣品來源：半導體研究所）
硅片表面結構3D圖像 放大倍數2100x
用不同顏色展現樣品表面的高低形貌
金屬材料3D形貌，奧氏體 放大倍數：1000x
真彩共聚焦模式下拍攝的奧氏體
感謝北京大學微電子工藝實驗室與半導體研究所提供的檢測樣品及測試環境。希望立足于此，將來為中國科學研究及精密測量領域提供更優質的設備與服務。
Leica DCM8-全面了解3D表面測量學
徠卡 DCM8
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