藝橋科技（香港）有限公司
藝橋科技（香港）有限公司
| 產地 | 進口 | 加工定制 | 是 |
|---|---|---|---|
| 適用行業 | 電子電器 |
美國賽默飛FEI場發射掃描電子顯微鏡
Apreo 革命性的復合透鏡設計結合了靜電和磁浸沒技術，可產生高分辨率和信號選擇。這使得 Apreo 成為研究納米顆粒、催化劑、粉末和納米器件的理想平臺，并且不會降低磁性樣品性能。
美國賽默飛FEI場發射掃描電子顯微鏡
型號：Apreo
Apreo 材料科學應用
功能蕞為豐富的高性能 SEM
Apreo 革命性的復合透鏡設計結合了靜電和磁浸沒技術，可產生前高分辨率和信號選擇。這使得 Apreo 成為研究納米顆粒、催化劑、粉末和納米器件的理想平臺，并且不會降低磁性樣品性能。
Apreo 受益于*的透鏡內背散射探測，這種探測提供的材料對比度，即使在傾斜、工作距離很短或用于敏感樣品時也不例外。新型復合透鏡通過能量過濾進一步提高了對比度并增加了用于絕緣樣品成像的電荷過濾。可選低真空模式現在的大樣品倉壓力為 500 Pa，可以對要求嚴苛的絕緣體進行成像。
通過這些優勢（包括復合末級透鏡、高級探測和靈活樣品處理），Apreo 可提供出色的性能和多功能性，幫助您應對未來的研究難題。
體驗 Apreo SEM 帶來的優勢
● *的復合末級透鏡可在任何樣品（即使在傾斜時或進行地形測量時）上提供優異的分辨率（1 kV 電壓下為 1.0 nm），而無需進行電子束減速。
● 作用*的背散射探測 - 始終保證良好的材料對比度，即使以低電壓和電子束電流并以任何傾斜角度對電子束敏感樣品進行 TV 速率成像時也不例外。
● 無比靈活的探測器 - 可將各個探測器部分提供的信息相結合，獲得至關重要的對比度或信號強度。
● 各種各樣的電荷緩解策略，包括樣品倉壓力蕞高為 500 Pa 的低真空模式，可實現任何樣品的成像。
● 的分析平臺提供高電子束電流，而且光斑很小。樣品倉支持三個 EDS 探測器、共面的 EDS 和 EBSD 以及針對分析進行了優化的低真空系統。
● 樣品處理和導航極其簡單，具有多用途樣品支架和 Nav-Cam+。
● 通過高級用戶指導、預設和撤消功能為新用戶提供專家級結果。
美國賽默飛FEI場發射掃描電子顯微鏡
您感興趣的產品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
儀表網 設計制作，未經允許翻錄必究 .? ? ?
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
