UVIR寬波段UV-SWIR成像測試系統針對寬波段成像系統而開發，實際上是一個可變的靶標成像投影系統，通過用一系列不同的靶標來將它們的圖像投射到被測相機接收方向，可測試的相機系統包括：紫外相機、VIS可見光相機、NIR相機、SWIR相機。
通過分析被測相機生成的圖像，觀察員或軟件算法對圖像質量進行評價，測量得出被測相機的重要特征參數，能夠測量測量像質參數（分辨率、MRC、MTF）和輻射參數（靈敏度、噪聲參數、響應函數）。
UVIR-A 測試系統主要由四個模塊組成：CDT 離軸反射式光管， XE150-A 寬波段UV- SWIR 光源， MRW-8電動旋轉靶輪，一組靶標，計算機，圖像采集卡，TAS-A計算程序。 UVIR-B 在以上基礎上升級了光源和計算程序，使用 XE150-B光源和TAS-B計算程序。
產品特征：
? 可在寬波段280nm到1700nm投影參考靶標圖像
? 被測相機的光學口徑不超過100 mm均可測量 (被測口徑可提升)
? 可模擬暗夜和非常亮的白天
? 計算機化測試系統，可半自動測量UV-SWIR成像系統的重要參數（UVIR-B版本）
? 測試性能：
UVIR-A：分辨率，最小可分辨對比度MRC，MTF, 畸變，視場
UVIR-B：分辨率，最小可分辨對比度MRC，MTF, 畸變，視場，靈敏度，信噪比SNR，噪聲等效照度，固定圖形噪聲FPN，不均勻性，響應函數，動態范圍，線性度
產品參數
CDT 光管 | |
光管類型 | 離軸反射式 |
有效孔徑 | 100 mm (可升級至200mm) |
焦距 | 1000mm (可調整) |
光譜范圍 | 0.28-15 ?m |
空間分辨率 | 不低于于100 lp/mrad |
鍍膜 | 保護鋁膜 |
視場角 | 2.7° (可改裝) |
旋轉靶輪 | |
型號 | MRW-8 |
孔位數量 | 8 |
控制方式 | 電動控制，數字式 |
靶標 | |
直徑 | 54 mm (孔位直徑) |
標準配置靶標 | 一組5種對比度USAF靶標，視場/畸變靶標，刀口靶標 |
選配非標靶標 | 4桿靶，針孔靶，輪廓靶 |
光源 | |
有效區域 | 40 mm |
光源型號 | 氙燈150W |
發光光譜 | 250-1800nm |
光譜 | 典型氙燈光譜 |
光亮度 | 高于 7000 cd/m2 |
光強調節類型 | XE150-A: 手動連續調整 XE150-B: 電動連續調整 |
調節動態范圍 | XE150-A: >10 000 XE150-B: >1 000 0000 |
是否標定 | XE150-A：未標定 XE150-B：已標定，標定單位cd/m2 或W/ m2 |
計算機 | |
基本信息 | 主流配置計算機 |
圖像采集卡 | |
可選格式 | 可從中選擇1到2個：模擬視頻, CL, GigE, LVDS, HD-SDI, HDMI |
其他參數 | |
工作溫度 | +5℃ 到 +35℃ |
儲存溫度 | -5℃ 到 50℃ |
電源 | 115-230VAC 50/60Hz |
