簡單介紹：
OE750全譜火花直讀光譜儀是一款突破性的新型OES金屬分析儀。其涵蓋了金屬元素的全部光譜，并具有同類產(chǎn)品中*低的檢出限。可用于分析所有主要合金元素，并識別金屬中含量極低的雜質(zhì)、痕量元素和處理元素。
詳情介紹：
OE750全譜火花直讀光譜儀是一款突破性的新型OES金屬分析儀。其涵蓋了金屬元素的全部光譜，并具有同類產(chǎn)品中*低的檢出限。
由于行業(yè)法規(guī)日益嚴格，供應鏈變得復雜以及更多地使用廢料作為基礎材料，因此鑄造廠和金屬制造商必須將雜質(zhì)和痕量元素控制在*低ppm范圍內(nèi)。在過去，這上等別的OES對許多企業(yè)而言是遙不可及。日立分析儀器推出的新型OE750可改變這一現(xiàn)狀。
這款直讀光譜儀可用于分析所有主要合金元素，并識別金屬中含量極低的雜質(zhì)、痕量元素和處理元素，如鋼中的氮。 OE750的測量速度快、可靠性高且運營成本低，可進行高性價比的日常分析和**質(zhì)量控制，其性能可與更大、更貴的光譜儀媲美。
OE750全譜火花直讀光譜儀的新光學系統(tǒng)設計的一個優(yōu)點是啟動時間短。由于光學系統(tǒng)體積小，不到一小時的時間便可啟用儀器。可在需要檢查來料的情況下，助力實現(xiàn)高批量生產(chǎn)。
除了新的光學設計之外，OE750全譜火花直讀光譜儀還有其他支持大批量金屬分析的技術特性。它有一個新的密封火花臺，具有優(yōu)化層流設計，可降低氬氣消耗，降低污染的可能性，并大大降低維護要求。帶有低壓氬氣吹掃的中壓系統(tǒng)可減少泵的使用。這可將泵的功耗降低90，并避免油氣污染，從而增加可靠性和儀器的正常運行時間。這使得OE750全譜火花直讀光譜儀具有高可靠性和低運行成本。
除**性硬件技術外，新型OE750還包括可提高性能的軟件。例如，它包括日立牌號數(shù)據(jù)庫，該數(shù)據(jù)庫包含來自69個國家的339,000多種材料的1,200多萬條記錄和標準，減少了人工查閱牌號目錄的時間和潛在錯誤。作為選擇方案，它配有SPC/LIMS包，能夠輕松有效監(jiān)控該儀器所涉過程以及由其控制的過程。這是滿足IATF 16949等標準要求的理想工具。
光譜儀光學系統(tǒng)
采用帕邢-龍格裝置多塊CMOS光學系統(tǒng)
羅蘭圓直徑：400 mm
波長范圍：119 – 766nm.
像素分辨率：7 pm
外部入射窗口，方便清洗及更換
實時波長校準功能保證了優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。
保證儀器能夠在任何惡劣的環(huán)境中持續(xù)正常工作，從實驗室到爐前現(xiàn)場，甚至更嚴酷的環(huán)境
火花源
全新的數(shù)字光源，電腦調(diào)節(jié)*優(yōu)的火花激發(fā)參數(shù)，幫助降低元素檢出限
高能預燃技術 (HEPS)
計算機調(diào)節(jié)參數(shù)
頻率80 – 1000 Hz
電壓250– 500 V
氬氣沖洗火花臺
開放式樣品臺設計
低氬氣消耗的“噴射電極”技術
通用可調(diào)樣品適配器
特殊樣品可更換相應火花臺
空氣冷卻系統(tǒng)
數(shù)據(jù)輸出
可接駁各種標準打印設備
數(shù)據(jù)存儲在移動存儲器上或以Excel、PDF形式輸出
網(wǎng)絡連接通過串口或USB接口
Software軟件
Windows 10操作系統(tǒng),
SpArcfire 光譜儀SpArcfire操作軟件
可選數(shù)據(jù)維護程序
操作軟件分析功能
控樣校正
局或局部標準化
校準和分析時再現(xiàn)性檢查
校準或監(jiān)控樣品的自動顯示
自動標識超出曲線范圍的結果
用戶自定義樣品碼輸入
自動或用戶自定義分析結果的打印、存儲及輸出
自定義牌號數(shù)據(jù)庫
牌號搜索和牌號鑒定功能
自定義公式輸入
分析結果可顯示優(yōu)良強度、相對強度、標準化強度和校正強度等多種形式
分析結果可用濃度、通道濃度表示
單點標或多點（高中低）標準化
干擾校正
基體校正
譜線自動切換
任意激發(fā)次數(shù)測量結果的平均值、標準偏差及相對標準偏差等計算
硬件故障自動診斷
光譜圖形顯示
譜圖信息存儲
