納恩科技總部位于深圳市南山區，在香港設有研發分公司，公司專注 于等離子材料表面處理和真空鍍膜技術研發，目前主要產品包括真空 等離子磁控濺射鍍膜設備，離子濺射儀，等離子刻蝕設備，等離子表 面處理設備，輝光放電儀等。 

公司核心研發團隊來源于香港大學等離子實驗室，香港理工大學材料 工程學院和美國佐治亞理工學院的微電子學院。自成立以來，納恩科 技圍繞等離子處理系統所需核心電源及底層算法進行技術布局，不斷 拓展自主設計能力。目前已完成以MCU，ARM為核心的射頻芯片開 發平臺，實現了芯片的結構化和模塊化開發。 具有高精度模擬、網絡 阻抗匹配、功率驅動、功率器件、射頻和底層核心算法的設計能力， 可針對不同細分領域等離子處理系統需求，快速做出底層硬件組合， 提高等離子系統的穩定性和效率。

納恩科技成立至今已為清華大學、香港大學、華為2012實驗室、北京大學、中科院、南方科技大學、美國康奈爾大學、賓夕法尼亞大學、等中外眾多有名企業、大學研究機構提供過等離子外理設備和解決方案，并專注于發展面向未來新材料市場的應用技術，助力客戶開發出激動人心的新工藝!