ASML DUV 光刻機 PAS 5500/750F DUV步進和掃描系統使用成熟的 248-nm KrF技術實現130nm量產。它結合了改進的0.7 NA 4x縮小鏡頭的成像能力,以及水準系統中的多點創新和 AERIAL II 照明技術,包括 QUASAR、多極照明和可選的多重曝光能力。該系統配備TTL對準和ATHENA,以提高后端工藝層的對準精度,提供小于25nm的長期單機覆蓋,進一步減少開銷時間,并結合提高客戶工作的生產率,提供了130(200mm)每小時的生產吞吐量。應用具有可變激光器頻率控制的2 kHz 20W KrF激光器可以獲得的操作成本。