產品特點

配備技術自循環凈化裝置（UV-PLUS）的光學系統
SPECTROLAB的光學系統集合了傳統光電管光學系統和CCD全譜光學系統的所有優點。采用優化帕邢—龍格原理的“半殼”鑄造鋁框架技術提供了超常堅固的機械結構，同時減小了內部容積。為減少外部環境的影響，光學系統內部恒溫恒壓。
主光學系統內部包括兩個獨立的光譜模塊—光電管光學部分和CCD光學部分，各自配備一個原級全息光柵。第三光學系統是一個獨立的空氣光學系統，將波長范圍擴展到780nm。的自循環凈化系統（UV-PLUS）用于測量紫外波段（UV）和遠紫外波段（VUV）光譜。嚴格密封的光學室內部充以氬氣，無需復雜的技術可以實現紫外及遠紫外光在光學系統內不被吸收。分子薄膜泵驅動氬氣在光學系統內部和凈化裝置中循環?？梢员苊獠捎谜婵障到y產生的油蒸氣污染或流動沖氣系統帶來的外部污染。保持潔凈的光學系統和優秀的長期穩定性表現。UV-PLUS的優點是大大降低了運行成本，并且在120-180nm的遠紫外光譜波段提供了出色的光學表現。
*的光學系統結構和UV-PLUS技術，使得創新的SPECTROLAB光學系統能夠記錄120-780 nm波段的所有的一級相關光譜信息，CCD光學系統的光譜分辨率達到9皮米。
等離子發生器激發光源：研發的SPECTRO高效等離子發生器激發光源可以提供穩定的火花放電。采用全數字信號發生和激發過程控制，激發區域的等離子能量可以高精度、高保真輸出。由于具備了全新的激發參數設置以及高純度的信號輸出，激發光源的精度得以顯著提高。分析精度因此顯著提高，分析周期大大縮短。對于標準應用程序，每次分析時間不超過18秒。
分析性能
根據用戶需求，量身定制。十種標準基體鐵、鋁、銅、鎳、鈷、鎂、鈦、錫、鉛和鋅,可以與五種貴金屬基體：金、銀、鉑、鈀和釕組合配置。在 CCD 光學系統中可以實現120-780nm波長范圍內所有元素的全譜記錄。在光電管光學系統中最多可以放置108個高性能光電備增管通道，每個通道配有微積分器（TRS功能）和單火花評估（SSE功能）。由此可以保證每一分析要求得滿足。配備現代化的光譜技術和高質量的組成部件，SPECTROLAB適用于各種分析要求。出眾的分析性能與高度靈活性相結合，能夠勝任諸如：過程控制分析，來料及成品檢驗，研究開發部門、檢驗檢測機構等各方面分析任務。
讀出系統
全新設計的讀出系統可以同時處理來自光電管檢測器和CCD檢測器的信號。共有22塊（加第三光學系統共37塊）CCD檢測器，每個CCD包括3800像素，類似全譜波長掃描，測量后大量數據結果可以集中顯示。這為材料研究（如未知材料判定，新合金配方等）提供了全新的分析手段。日常分析過程基于選定的光譜線，只有元素的信號被采集。這可以實現瞬時信號的實時采集。分析結果可以取自整個測量過程中某一時序的瞬時信號測定。根據應用要求，某些光譜線采用光電倍增管測量。光電流由微積分器處理，可以實現微秒級測量，每一單個火花放電過程可進行100次以上的步進測量，每個光電管通道的光譜峰值由步進過程描跡而成。實現這些步進過程測量以后，就可以根據需要定義測量“窗口”為其中某一時段動態范圍或信背比時段（痕量火花分析技術SAFT）,用以分析微量元素。相對于傳統的積分測量技術，現在可以測量每一單個火花的放電信號，而不是將千百次火花放電的總信號量積分成一個總量。由此實現剔除因樣品中夾雜物或氣造成的“失敗”放電信號。SSE單火花評價技術可以顯著提高分析性能?？梢园凑辗治鲆蠓謩e獨立定義每一光電管通道的SAFT和SSE功能，也可以在一個分析周期內多次定義。這一靈活性可以在最短的分析時間內獲得分析結果。