金屬材料領(lǐng)域*的全譜直讀光譜儀
檢測基體：鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基。
全新立式全譜光譜采用標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)計(jì)和制造工藝技術(shù)，采用全數(shù)字技術(shù)，替代龐大的光電倍增管（ＰＭＴ）模擬技術(shù)，采用真空光學(xué)室設(shè)計(jì)及全數(shù)字激發(fā)光源、ＣＣＤ檢測器，高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng)，使儀器具有較高的性能、較低的檢出線、長期的穩(wěn)定性和重復(fù)性。適用于金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉業(yè)用于質(zhì)量監(jiān)控、材料牌號識別、材料研究和開發(fā)的主要設(shè)備之一
檢測基體：鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基。
全新立式全譜光譜采用標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)計(jì)和制造工藝技術(shù)，采用全數(shù)字技術(shù)，替代龐大的光電倍增管（ＰＭＴ）模擬技術(shù)，采用真空光學(xué)室設(shè)計(jì)及全數(shù)字激發(fā)光源、ＣＣＤ檢測器，高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng)，使儀器具有較高的性能、較低的檢出線、長期的穩(wěn)定性和重復(fù)性。適用于金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉業(yè)用于質(zhì)量監(jiān)控、材料牌號識別、材料研究和開發(fā)的主要設(shè)備之一
主要特點(diǎn):
1、快捷的分析性能（僅15-30秒）；
2、動態(tài)范圍：從ppm—% ；
3、開闊的火花臺以及特殊的小樣品夾具，保證儀器適用于各種形狀的金屬樣品分析；
4、準(zhǔn)確：優(yōu)于1%的偏差 ；
5、優(yōu)異的氮、氧元素分析性能；
6、高穩(wěn)定性，高可靠性；
7、可選配多塊高性能CCD檢測器系統(tǒng)，根據(jù)應(yīng)用需要多達(dá)16塊CCD檢測器，增加儀器基體及元素分析升級的靈活性；
8、高等級標(biāo)樣標(biāo)定；
9、PC控制的變頻高能預(yù)火花（HEPS）；
10、高精度的溫度與壓力控制；
11、高JI 軟件功能，操作便捷，易于掌握；
12、適用于各種金屬材料分析；
光學(xué)系統(tǒng)：
1、巴邢-龍格架法，焦距：500 mm；
2、高性能全息衍射光柵，光柵刻線2700條/mm和3600條/mm ；
3、每塊CCD 3,648 像素，大58,368 像素的分辨率(16 *3,648 像素) ；
4、譜線波長：130 - 800 nm由衍射光柵的選擇決定。光柵的選擇由制造商根據(jù)分析元素和分析程序來決定；
5、密閉的真空光學(xué)室可以避免灰塵、光線的干擾
