產品說明：
本儀器包括透射型（WNLO-ID）和反射型（WNLO-RID）雙4f相位成像儀兩款產品。雙4f相位成像測量儀是本公司自主研發的新型光學非線性測量儀，擁有自主知識產權。該測量儀適用于從可見光到近紅外波段（特別是光通信波段）的非線性吸收和非線性折射系數的測量。該儀器只需單個脈沖就可以完成介質非線性系數的測量，通過對參考光斑和非線性光斑的分析，就可直接確定材料的非線性折射系數大小和符號，并同時測量材料的非線性吸收系數。WNLO-ID型雙4f成像儀適用于透明材料光學非線性的測量，WNLO-RID型雙4f成像儀適用于不透明介質表面以及不透明襯底上薄膜的光學非線性的測量。與現有的其他光學非線性測量方法相比，該儀器可在激光脈沖的空間分布、時間分布和能量不穩定的情況下實現材料光學非線性的精確測量。該儀器利用自主研發的控制軟件，操作簡單方便，并利用圖像及數據處理軟件實現數據自動化采集處理。WNLO-ID&WNLO-RID型雙4f相位成像測量儀使用非常方便，對光源要求較低，可滿足高校、科研院所及新材料企業的新型材料的研發需求。
本儀器包括透射型（WNLO-ID）和反射型（WNLO-RID）雙4f相位成像儀兩款產品。雙4f相位成像測量儀是本公司自主研發的新型光學非線性測量儀，擁有自主知識產權。該測量儀適用于從可見光到近紅外波段（特別是光通信波段）的非線性吸收和非線性折射系數的測量。該儀器只需單個脈沖就可以完成介質非線性系數的測量，通過對參考光斑和非線性光斑的分析，就可直接確定材料的非線性折射系數大小和符號，并同時測量材料的非線性吸收系數。WNLO-ID型雙4f成像儀適用于透明材料光學非線性的測量，WNLO-RID型雙4f成像儀適用于不透明介質表面以及不透明襯底上薄膜的光學非線性的測量。與現有的其他光學非線性測量方法相比，該儀器可在激光脈沖的空間分布、時間分布和能量不穩定的情況下實現材料光學非線性的精確測量。該儀器利用自主研發的控制軟件，操作簡單方便，并利用圖像及數據處理軟件實現數據自動化采集處理。WNLO-ID&WNLO-RID型雙4f相位成像測量儀使用非常方便，對光源要求較低，可滿足高校、科研院所及新材料企業的新型材料的研發需求。
型號：WNLO-ID & WNLO-RID
【可見光及近紅外波段光學非線性系數測量儀】
【可見光及近紅外波段光學非線性系數測量儀】
產品特點：
1、單脈沖測量，無需樣品移動，特別適用于薄膜光學非線性的測量；
1、單脈沖測量，無需樣品移動，特別適用于薄膜光學非線性的測量；
2、反射雙4f成像儀可非常方便的測量不透明介質表面以及不透明襯底上薄膜的光學非線性；
3、同時確定材料的非線性折射符號、非線性折射系數、非線性吸收系數；
4、測量波段：可見光和近紅外波段（可根據用戶需要選定測量波段范圍)；
5、對激光脈沖的空間分布、時間分布和脈沖能量的穩定性要求比較低，適用各類可調諧激光光源（OPO，OPG等）在寬波段范圍內進行光學非線性測量；
6、自主研發的控制軟件和數據分析處理軟件，界面友好，操作簡單。
測量示例：
測量示例：
