日立OE750直讀光譜儀全面金屬分析爐料控制
OE750直讀光譜儀是一款新型OES金屬分析儀。其涵蓋了金屬元素的光譜波長，并具有同類產品中較低的檢出限。
OE750直讀光譜儀全面金屬分析爐料控制?
一、產品特點
OE750直讀光譜儀是一款新型OES金屬分析儀。其涵蓋了金屬元素的光譜波長，并具有同類產品中較低的檢出限。
日立的這款OES可用于分析合金元素，從測量鋼鐵中的氮到鋁中的磷 ，并識別金屬中含量低的雜質、痕量元素和關鍵元素，如鋼中的氮、銅中氧 。
爐料校正：該軟件會自動計算加入熔液中的合適材料量，使其符合規格。您不需依賴人工的專業知識，這大大加快了爐料校正過程。該軟件還通過考慮可用的原材料和爐子容量，計算成本效益的熔液校正方法。
二、技術參數
高度/寬度/深度425 mm / 535 mm / 760 mm
重量82 kg
電源100 - 240 V AC, 50 / 60 Hz
zui大功率430 W
運行/待機45 W / (50 W 光源開啟)
| 光學系統
羅蘭圓采用帕邢-龍格裝置
高分辨率多CMOS 優化的像素分辨率
波長范圍119 - 766 nm
焦距400 mm
| 固態數字電源
計算機控制參數
頻率 80 - 1000 Hz
電壓250 - 500 V
高能預燃技術 (HEPS)
| 讀出系統
外部PC工作站Microsoft® Windows® 用戶界面
三、為什么選擇OE750？
1、值得信賴的結果
在同類產品中控制雜質和痕量元素的光學分辨率高。
2、綜合成本低
負擔得起的購買和運行成本，提供更貴分析儀器所具備的性能。
3、保持運行不間斷
設計精良，維護和標準化要求低。
4、支持連續生產
分析速度快，啟動時間短，可快速反饋熔液質量。
四、我們如何提高 性價比
這*取決于技術
OE750采用*的半導體探測器和新型光學概念。這使得日立的OES光譜儀在同類產品中具有高光學分辨率，因此您不必在高性能和低成本之間作出選擇。
動態CMOS檢測器的創新使用以及將光學系統直接接合至火花臺可確保較好照度以及119nm至766nm的波長范圍。這包括從氫到鈾的所有元素，用于全元素分析*。這種性能通常只適用于質量控制儀器，但OE750可通過創新、低氬和低功耗降低成本。
OE750在元素選擇上具有較大的靈活性，能使操作適合未來需
要。
五、支持質量控制的軟件創新
1、SPARCFIRE
| OE750的現代操作軟件具有較*的用戶界面，旨在滿足冶金專家的要求，但足夠直觀，缺乏經驗的用戶也可操作。
2、牌號數據庫
| OE750中預先安裝有市面上的金屬牌號數據庫，可快速而輕松地鑒定牌號。日立的牌號數據庫能提供70多個國家和標準中350,000多種材料的1,500多萬條記錄。幾次點擊，即可更儀器的牌號數據庫，不用耗費時間研究各種規范和牌號目錄。
3、爐料校正
| 該軟件會自動計算加入熔液中的合適材料量，使其符合規格。您不再需要依賴人類的專業知識，這大大加快了爐料校正過程。該軟件還通過考慮可用的原材料和爐子容量，計算較具成本效益的熔液校正方法。
4、統計過程控制 (SPC)
| SPC能確保輕松監控過程。如果熔體、過程或儀器超出規格，將及時發出通知。可為每個元素設置控制上限和控制下限，并查看每個元素在這些限制內的可視化表示。這意味著您可以在它們影響終規格之前發現趨勢，以減少報廢和返工。此外，跟蹤功能使得為客戶或監管審計提供信息變得更加容易。
5、EXTOPE CONNECT
| ExTOPE Connect 是一項高級數據管理和存儲服務，它能夠安全地
存儲結果、即時共享數據以及從任何計算機實時訪問數據。它包無
限免費和安全數據存儲，用戶可從一個集中位置管理多個站點的儀
器群。
六、降低運營成本
1、OE750的沖力遠遠超過其自身的重量，從而以一個可訪問軟件包為您提供昂貴分析儀的性能。此外，我們也降低了運行成本。具體原因如下：
2、低氬耗
OE750的氬耗比之前型號減少10%，這是因為學系統的體積減少，火花周圍的氣流更好。
3、低能耗
由于創新的數字火花光源和智能電源管理，此款光譜儀的能耗低于以前型號的一半。
七、型號對比
型號 FMS FME FMP2 OE750無限制，儀器可升級 √ √ √ √ 低碳鋼分析(5ppm LOD) × × √ √ 低合金鋼和鑄造熔體控制中的氮 × √ √ √ 可選爐料修正計算軟件 √ √ √ √ Pb, Sn 基體 × √ √ √
測量低合金鋼中酸溶鋁和酸不溶鋁 × × √ √ 通過以下取得光學潔凈度 氬氣凈化 氬氣凈化 中壓系統 中壓系統針對痕量和雜質元素的檢測限低 * ** *** ****Pb, Si, Sn 等的改良檢出限 × × √ √
痕量元素，例如 Se, La, Te 等 × × √ √
