增加結合力等離子清洗機

等離子清洗/刻蝕機產生等離子體的裝置是在密封容器中設置兩個電極形成電場，用真空泵實現一定的真空度，隨著氣體愈來愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由運動距離也愈來愈長，受電場作用，它們發生碰撞而形成等離子體，這些離子的活性很高，其能量足以破壞幾乎所有的化學鍵，在任何暴露的表面引起化學反應，不同氣體的等離子體具有不同的化學性能，如氧氣的等離子體具有很高的氧化性，能氧化光刻膠反應生成氣體，從而達到清洗的效果；腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性，這樣就能滿足刻蝕的需要。利用等離子處理時會發出輝光，故稱之為輝光放電處理。

等離子清洗/刻蝕機的機理，主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來看，等離子體清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發為等離子態；氣相物質被吸附在固體表面；被吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子；產物分子解析形成氣相；反應殘余物脫離表面。

與傳統使用物理打磨機和有機溶劑的濕法清洗相比，等離子表面處理器具備以下優勢:
等離子表面處理器的清洗方式是干式清洗，不需要再經干燥處理即可送往下一道工序。可以大幅提高整個工藝流水線的處理效率;
等離子表面處理機使得用戶可以遠離有害溶劑對人體的傷害，同時也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對象的問題;
避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑，這樣清洗后不會產生有害污染物，因此這種屬于環保的綠色清洗方法。這在高度關注環保的情況下越發顯出它的重要性;
采用無線電波范圍的高頻產生的等離子體與激光等直射光線不同。等離子表面處理器等離子體的方向性不強，這使得它可以深入到物體的微細孔眼和凹陷的內部完成清洗任務，因此不需要過多考慮被清洗物體的形狀。而且對這些難清洗部位的清洗效果與氟利昂清洗的效果像是甚至更好;

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